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真空鍍膜電源
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關於真空離子鍍膜的作用

2020-07-25 00:00:00

真空鍍膜電源廠家的在真空(kōng)離子(zǐ)鍍膜(mó)中,尤(yóu)其對於(yú)多弧離子鍍膜,無論是裝飾鍍還是工具鍍,轟偏電源的好壞對於成膜質量都起著非常關鍵的作用。裝飾(shì)鍍(dù)和工具鍍(dù)對膜層質量(liàng)的要求有(yǒu)相(xiàng)同之處又各有側重。

離子源電源

離子鍍是真空室中,利用氣體放電或被蒸(zhēng)發物質部分離化,在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同(tóng)時(shí),將蒸發物或反應物沉積在基片(piàn)上。離子鍍(dù)把 輝光放電現象、 等離子體技術和真空蒸發三者有(yǒu)機結合起來,不僅能明顯地改進了膜質量,而且還擴大了薄膜的應用範圍。多弧電源其優點是(shì)薄膜 附(fù)著力強,繞射性好,膜材廣泛等。D.M.首次(cì)提出離子鍍(dù)原理,起工作過程是:


先將真空室抽至(zhì)4×10(-3)帕以上的真空(kōng)度,再接通高壓電(diàn)源,在蒸(zhēng)發(fā)源與基(jī)片之間建立一個低壓氣體放電(diàn)的 低溫等離子區。基片電極接上5KV直流負高壓,從而形成光放電陰極。輝光放電(diàn)去產生(shēng)的惰性(xìng)氣體離子進入陰(yīn)極(jí)暗區被電場加速並轟擊基片表麵,對其進行清洗。然後計入鍍膜(mó)過程,加熱使鍍料氣化,起原子進入等離子區(qū),與惰性氣體離子及電子發生碰撞(zhuàng),少部分產生離(lí)化。離化後的例子及(jí)氣體離(lí)子以較高能量轟擊鍍層表麵,致使膜(mó)層(céng)質量得到改善。


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