真空鍍膜電源的（de）工作原（yuán）理

直流電源工（gōng）作原理（lǐ）（以常見的直流（liú）濺射鍍膜電源為例）
直流（liú）電源的輸出端連接到濺射（shè）靶（bǎ）材和鍍膜基底所在的真空腔體內。在真空環境下，電源提供穩定的直流電壓（yā），使得靶材相對於基底帶負電。當電壓達到一定程度時，腔（qiāng）體內的氣體（通常為惰性氣體，如氬氣（qì））被電離形成等離子體（tǐ），其中的正離子在電場作用下加速（sù）轟擊靶材表麵。靶材原子在離子轟擊下被濺射出來，然後沉積到基底表麵，從而形成鍍膜層。電源的作用就是持（chí）續穩（wěn）定地（dì）提供這個驅動離子轟擊以及維持等離子體的電壓，並且通過調（diào）節輸（shū）出電壓、電流等參數來控製濺射速率等鍍膜相關參數。

交流電源工作原理（lǐ）（比如中頻、高頻電源用於某些鍍膜工藝）
對於（yú）中頻（一般頻率在幾十千赫茲）和高頻（頻率更高，可達兆（zhào）赫茲級別）電源，它（tā）們通過交變的（de）電場來（lái）使（shǐ）氣體電離形成等離（lí）子體。以中頻電源（yuán）為例，其輸出的交變電流會在真空（kōng）腔體內（nèi）產生周期（qī）性變化的電場，使得氣體分子（zǐ）在不同時刻分（fèn）別被加速、電離，產生的等離子體中（zhōng）的離子周期性地轟擊靶材，實現材料（liào）的濺射和鍍膜。高（gāo）頻電源（yuán）則利用更高頻率的交變電場，能（néng）更有效地產（chǎn）生高密度的（de）等離（lí）子體，適用於（yú）一些對鍍膜質量、鍍膜（mó）速率（lǜ）要求更高的工藝（yì）場景（jǐng）。其工作過程中，電源的頻率、功率等參（cān）數對等離子體的狀態（tài）以及（jí）最終的鍍膜效果起著關鍵的調節作（zuò）用。

脈衝電源工作原理
脈衝電源是按照一定的時間間隔輸出脈衝（chōng）式的電壓或電流。在脈衝的高（gāo）電平階段，會在真空腔體內產生足夠強的電場（chǎng）使氣體電（diàn）離、驅動離子（zǐ）轟擊靶材等，實現鍍膜材料的（de）濺射或蒸發等過程；而在脈衝的低（dī）電平階段，等離（lí）子體等狀態會短暫調整，這樣可以避（bì）免連續工作時（shí）可能出（chū）現的一些諸如靶材過熱、等離子體不（bú）穩定等問題。通過調（diào）節脈衝（chōng）的頻率、寬度、幅值等參數，能夠（gòu）精準地（dì）控製鍍膜過程中的瞬時功率、平均功率等，進而有效控製鍍膜的質量（liàng）和（hé）速率，尤其（qí）適用於一些對膜層微（wēi）觀結構、性能要求特殊的鍍膜應用。