MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要（yào）型號：

主要特點：
   A 明顯改（gǎi）善靶麵電（diàn）荷積累現象（xiàng），減小濺射表（biǎo）麵的打火次數，提高（gāo）膜層質量。
   B 具有平均電源（yuán）穩定功能，具有理想的電壓陡降特性，
充分（fèn）滿足磁控濺射工藝過（guò）程的連續性。
   C 空載電壓≥1000V，工（gōng）作電壓200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製（zhì）/模擬量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術（shù），使用（yòng）進口IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器（qì）件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可（kě）靠（kào），生產工藝嚴格完善。
該係列產（chǎn）品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍（dù）膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電（diàn）及抗短路功能，
具（jù）有（yǒu）極佳的（de）負載匹配能力，既保證了靶麵清洗工藝的穩（wěn）定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展（zhǎn）功能，方便實（shí）現自動化（huà）控製。

主要用途：

單極脈（mò）衝磁控濺射適（shì）用於金屬、合金及石墨等靶（bǎ）材鍍製金屬膜、碳膜和部（bù）分氧化物、氮化物及碳化物膜。

鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗（xǐ）要求很高，達到分子級。在（zài）清洗槽中分別放置（zhì）各種清洗液，並采用（yòng）超聲波加強清洗效果（guǒ），當鏡片清洗完後（hòu），放進真空艙內，在此過程中要特別注意（yì）避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是（shì）在真空艙內，在此過程（chéng）中要（yào）特別注意避免（miǎn）空氣（qì）中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是（shì）在真空艙內鍍前進行（háng）的，放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例（lì）如用氬離子），完成此道清洗工（gōng）序後即進行減（jiǎn）反射膜（mó）的鍍膜。

真空（kōng）鍍膜電源為什麽在現在會應用那（nà）麽多呢，有哪些明顯的（de）效果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是（shì）指在（zài）高真空的（de）條件下加熱金（jīn）屬（shǔ）或非金屬材料，使其蒸發並凝結於鍍件（金屬、半導（dǎo）體或絕緣體）表（biǎo）麵而形成薄膜的（de）一種方法。例（lì）如，真（zhēn）空（kōng）鍍（dù）鋁、真空鍍鉻等。

2、光（guāng）學（xué）鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光（guāng）學零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。