真（zhēn）空鍍膜技術的專業術語和工藝

1.1真空鍍膜:在真空條件下在基材上製備薄膜（mó）層的方法。

1.2底物:膜層受（shòu）體。

1.3測試基材（cái）:在塗層過程開始、過程中或之後用於測量和/或測試的基材。

1.4塗層（céng）材料:用於製作塗層的原材料。

1.5蒸發材料:真空蒸發中用（yòng）於蒸發的塗（tú）層材料。

1.6濺射材料:真空濺射中用於濺射的塗層材料。

1.7膜材:構成膜層的材料。

1.8蒸發速率:在（zài）給定的時間間隔內，物質的蒸發量（liàng）除（chú）以該時間間隔

1.9濺射率:在給定時間間隔內濺射出的材料（liào）量除以該時間間隔。

1.10沉積速率:在給（gěi）定時間間隔內沉積在襯底上的材料（liào）量，除以時間間隔和襯底表麵積。

1.11塗層角:顆粒入射到（dào）基材上的方向與被塗層表麵法線之間的夾角。

2過程

2.1真空蒸發鍍膜:使塗層材料蒸發的真空鍍膜工藝。

2.1.1同時蒸發:利用多（duō）台蒸發器將各種蒸發物質同時蒸發到基材上的真空蒸發。

2.1.2蒸發場（chǎng）蒸發:從蒸發場同時蒸發出來的材料沉積（jī）在基片上的真空蒸發過程(該過程應用於大規模蒸發，以達（dá）到理想的（de）膜厚分布)。

2.1.3反應真空蒸發:膜材料通過與氣（qì）體反應而達到理想化學成分的真（zhēn）空蒸發。

2.1.4蒸發器反應真空蒸發蒸發器反應真（zhēn）空（kōng）蒸發（fā）:與蒸發器內各種蒸發（fā）物質發生反應，得到理想化學成（chéng）分膜層材（cái）料的真空蒸發。

2.1.5直接加熱蒸發:蒸發物料蒸發所需（xū）的熱量是蒸發物料本身的蒸發(有或無坩堝)。

2.1.6感應加熱蒸發:通（tōng）過感應渦流加熱使物料（liào）蒸發。

2.1.7電子束蒸發:通過電（diàn）子轟擊加熱材料的蒸發。