真空鍍膜機幾種鍍膜方法介紹

真空鍍膜設備的鍍（dù）膜（mó）工藝有很多（duō）。簡（jiǎn）單來說，就是利用蒸發、濺（jiàn）射等方法，在真空環境下發射薄膜顆粒，將其沉積在金屬、玻（bō）璃、陶瓷（cí）、半導體、塑料件等物體上，形成客戶需要的各種塗層。在日常生活中較為常見的技術有（yǒu）真空蒸發、濺射鍍膜、離子鍍膜（mó）等

真空蒸發鍍膜:原理是用蒸發（fā）器在真（zhēn）空條件下加熱薄膜材料，使其汽化或升華。蒸發的粒子（zǐ）流直接指向基材，在基材上沉積（jī）固體（tǐ）薄膜。蒸發又可分為電子束蒸（zhēng）發（fā）、電阻蒸發、感應蒸發等

濺射鍍膜:在真空條件下，對陰極施加高壓電激發輝光放電，帶正電的氬（yà）離子與陰極靶材（cái）碰撞，使（shǐ）其射出薄膜顆粒，沉積在基材上，形成（chéng）薄（báo）膜層。

離子塗層:離子塗層通常是指在塗層過程中產生大（dà）量離子的塗層方法。在膜的形成過程中，基底不（bú）斷受到高能粒子的轟擊，膜層的強度（dù）和附著力（lì）非常強。當離子鍍用於生產（chǎn）高精度膜層時（shí），可以過濾掉大顆粒離子，從而獲得高（gāo）結構、高密度的膜層。

日常生活中較常用的鍍膜技術就是這三種真空鍍膜設備。具體選（xuǎn）擇取決於（yú）要塗覆的膜層類型、要塗覆的工件類（lèi）型等。