脈衝（chōng）磁控濺射電（diàn）源簡介

說（shuō）起單極脈（mò）衝磁控濺射電源，可能有（yǒu）點（diǎn）困惑，但我想說的是，它是對直流磁控濺射電源的（de）升（shēng）級（jí），是不是突然（rán）明白了？脈衝磁控濺射是（shì）用矩形波電壓脈衝電源代替傳統直流電源的（de）一種（zhǒng）方法。脈衝濺射可（kě）以有效地抑製電（diàn）弧的（de）產生，消除由此產生的薄膜（mó）缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是（shì）濺射絕緣材料沉（chén）積的精選工藝。一個周期有正電壓和負（fù）電壓兩個階段，在負電壓段中，電源作用（yòng）於靶材的濺射，正電壓段將電子（zǐ）積累的正電荷引入靶材表麵，使（shǐ）表麵清潔，露出金屬表（biǎo）麵。施加在（zài）靶材上的脈衝電壓與一般磁控濺射的脈（mò）衝電壓相同！對於400~500V，電源頻率在10~350KHz，在保證穩（wěn）定放電的前提下，應盡可能低地取頻率#因為（wéi）等離子體中的電子相（xiàng）對於離子具有更高的遷移率，所以正電壓值隻需要是負電壓的（de）10%到20%，就可以有效地中和積聚在靶表麵（miàn）的正電荷。占空比（bǐ）的（de）選擇確保了（le）濺射（shè）過程中靶表麵積累的電荷在正（zhèng）電（diàn）壓階段可以完全被中和，從而盡可（kě）能地提高占空比，以實（shí）現電源的較大效率。

單極脈衝磁控濺射電源的優點是，它可以有效地抑製電弧的產生，消（xiāo）除由此產生的薄膜（mó）缺陷，同時可以提高濺射的沉積速率，降低（dī）沉積溫度等一係列顯（xiǎn）著優點，是沉積濺射絕（jué）緣材（cái）料的較佳工藝