離子（zǐ）源電源理想的磁（cí）場設計

離（lí）子源電源理想的磁場設計（jì）體（tǐ）現為：一方麵盡（jìn）可能擴大磁場（chǎng）橫（héng）向分量的麵積（jī）與強度，另（lìng）一方麵（miàn）樶大程度的控製和（hé）限製弧斑的（de）運動。由於工具鍍膜持續時間較長，對膜層的性能要（yào）求較高，工業應用的離子鍍弧源（yuán）應（yīng）具備以下幾點特性：(1)放電穩定（dìng），不經常滅弧；(2)弧斑運動約束合理，不跑弧；(3)靶材（cái）利用率高（gāo）；(4)弧斑細膩，放電功率密度小，大（dà）顆粒少；(5)等離子體密度以及離化率高，向（xiàng）工件輸運的等離（lí）子體通量足夠。

真空鍍膜電源技術的離子源電源：提高工具、模具的加工質量（liàng）和使用壽命一直是（shì）人們不斷探（tàn）索的課（kè）題。電弧離子鍍技術是一種工模具材料表麵（miàn）改性技術，具有離化率高、可（kě）低溫沉（chén）積、膜層質量好以及沉積（jī）速率快等其他鍍（dù）膜方式（shì）所不具備的優勢，已在現代工具以及各種模具的表麵（miàn）防護取得（dé）了（le）理想的應（yīng）用效果（guǒ）。但是，電弧放電導致的大顆粒存在限（xiàn）製了工模具塗層（céng）技術的進一步應用（yòng），也成為後期電弧離子鍍技術發展的（de）主要論題。

離（lí）子（zǐ）鍍弧源是電（diàn）弧等離子體放電的源頭，是離子鍍技術的（de）關鍵部件。電（diàn）弧離子鍍采用的弧源是冷陰極弧源，這（zhè）種弧源中電弧（hú）的行（háng）為被陰極表麵許多快速遊動（dòng）、高度明亮的陰極斑點所控製。在發展和完善電弧離子鍍技術的過程中，對電弧陰極斑點運動的有效控製至關重要，因為這決定（dìng）了電弧放電的穩定性、陰極靶材的有效利用、大顆粒（lì）的去除（chú）、薄膜質量的改善等（děng）諸多關鍵（jiàn）問題（tí）的解決。國內外一直致（zhì）力於這方麵的工作，研究熱（rè）點主要集中在（zài）磁場控製的弧源設計上。由於真空鍍膜電源電（diàn）弧的物理特性，外加電磁場是控製弧斑運動的有效方法，目（mù）前（qián）所有的磁場設計都是考慮在靶麵形成（chéng）一定的磁場位（wèi）形，利用銳角法則限製弧斑的（de）運動軌跡，利用橫向分（fèn）量提高弧斑的運（yùn）動速度。