主要型號:
型號 | 功率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷(lěng)卻方式 |
MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 |
MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 |
主要特點:
A 可選(xuǎn)擇三角波、矩形波、正弦波三種波形,波(bō)形的最高值和最(zuì)低值可獨立設置(zhì)。
B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
C波形頻率範圍:0.1-50Hz
D三角(jiǎo)波、矩(jǔ)形波占空比10%~90%
E 可選(xuǎn)擇(zé)手動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采用先(xiān)進的PWM脈寬調製技(jì)術,使用進口IGBT或MOSFET作為功(gōng)率開關器(qì)件,
體積小、重量輕、功能(néng)全、性能穩定可靠,生產工藝(yì)嚴格完善。
該係(xì)列產(chǎn)品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工藝的重(chóng)複性,
並且(qiě)具有抑製靶材弧光放(fàng)電及抗短路功能,
具有極佳的負(fù)載匹配(pèi)能力,既保證了靶麵清洗工藝的穩定性(xìng),又(yòu)提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現自動化(huà)控製。
主要用途(tú):
MS係列(liè)勵磁多波形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈,產生周(zhōu)期性可變磁磁場,使多弧(hú)輝光由原來的集中放電變為均(jun1)勻放電,提高工件膜層質量

真空(kōng)鍍膜電源(yuán)廠家告訴你高頻開關電鍍電(diàn)源應用在(zài)金屬表麵處理(lǐ)及小功(gōng)率範(fàn)圍內的(de)國內市(shì)場(chǎng)已(yǐ)經接受,具有廣(guǎng)闊的市場前景。但產品(pǐn)主要局限於1500A以下的中小功率領域,在國內(nèi)也隻有少量廠家生產,從技術(shù)角度看主要限於硬開關變(biàn)換模式和模擬(nǐ)控製方式,可靠性、EMC及工藝結構等方(fāng)麵具有明顯的局(jú)限性(xìng),同焊接等領域全麵推(tuī)廣應用開關式電源(yuán)的景況具有較大差(chà)距。
真空鍍膜是指在高真空(kōng)的條件下加熱金屬或非金屬材(cái)料,使(shǐ)其蒸發並(bìng)凝結於鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表(biǎo)麵而形成薄(báo)膜的一種方法。
真空鍍膜這一塊(kuài)是真空應用領域的重要方麵,在真空中以真空(kōng)技術為基礎,把物(wù)理方法和化學方法利用起來,通過吸收(shōu)分子束、離子束、電子束、等離子束、射頻和磁(cí)控等一係列高新技術,在科學研究和實際生產中,為薄(báo)膜製備提供一種新工藝,簡單(dān)的一點來說,要在真空中利用合金、金屬或(huò)化(huà)合物(wù)進行蒸發和濺(jiàn)射,並讓被塗覆的物體(有基片、稱基板、基體等(děng)等)進行凝固並沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真空鍍膜電源就可想而(ér)知,眾所周(zhōu)知,在一些材料的表麵上鍍上一(yī)層薄膜,就可以使這種材料具有多種性能,例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的;
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