MSD係（xì）列直流磁控（kòng）濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減（jiǎn）小輸出儲能元件，
同（tóng）時提高（gāo）了抑（yì）製打火及重啟速度，應（yīng）用在鋁靶鍍（dù）膜優勢更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能保證鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理想的電壓陡降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續（xù）性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可（kě）選擇手動控製（zhì）/模擬量接口控製，可選配（pèi）RS485通訊接口。
  F 采用進口（kǒu）大功率IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進（jìn）口IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全（quán）、性能穩定可靠，生產工藝嚴格（gé）完善。
該係列產品（pǐn）采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工（gōng）藝的重複性，
並且具有抑（yì）製（zhì）靶材弧光（guāng）放電及抗短路功（gōng）能，
具有極佳的負載匹配能力（lì），既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵（miàn）清洗速度（dù）；
主要參數均可大範圍連續（xù）調（diào）節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便（biàn）實現自動化（huà）控製（zhì）。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製（zhì）各種金屬

在電子科技快速發展的時代中，電源的應用可以（yǐ）說是隨處可見的，或許（xǔ）正（zhèng）是（shì）因為電源的普遍應（yīng）用，所以電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電源（yuán）類型中的一種，這種電（diàn）源與普通的電源（yuán）有一定的區別，單是電源的外觀就有明顯（xiǎn）的不同。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工（gōng）上（shàng）有什麽要注意的嗎？當光線進入不同傳（chuán）遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有（yǒu）許多透鏡和折射（shè）鏡，整個加起來可以讓入射光線（xiàn）損失達30%至40%。現代光學透鏡通常（cháng）都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜（mó）則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍（dù）膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

真空（kōng）鍍膜（mó）機增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的（de）光波在傳播的過程中，在不同（tóng）介質的分界麵上（shàng），由於邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說，當增透膜（mó）兩（liǎng）邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是（shì）介（jiè）質1、2的折射率（lǜ）），才可以使入射光（guāng）全部透過介質（zhì）。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於（yú）一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單（dān）層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長（zhǎng）。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增透，為使在更大範（fàn）圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多（duō）層膜來實（shí）現（xiàn）。

人們對增透膜的（de）利用有了很（hěn）多的經驗（yàn），發現了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握（wò）了不少先進的鍍膜技術，因此增（zēng）透膜的應（yīng）用涉及醫學、軍事、太空探索（suǒ）等各（gè）行各業，為人類科技進步作出了重大貢獻。