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真空鍍膜是真空應用領域（yù）的一個突破性技術，利（lì）用物理（lǐ）或者化學方法並（bìng）吸收一係列新技術而成（chéng）的工藝，目（mù）的（de）就是為了在實際生產中為產品創造薄膜保護層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍（dù）三種。真空鍍膜電源廠家介紹真（zhēn）空鍍膜有什麽特（tè）點：
（1）成膜溫度低。鋼鐵行業中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學（xué）鍍膜溫度更高達1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質，而真空（kōng）鍍膜的（de）溫度低，可以降到常溫，避（bì）免了常規鍍膜工藝的弊端。
（2）蒸發源選擇自（zì）由度大。可選擇（zé）的鍍（dù）膜材料多而不受材（cái）料熔點限（xiàn）製，可鍍種類眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種複合膜。
（3）不使用有害氣體（tǐ）、液體，對環境無不利影響（xiǎng）。在（zài）當（dāng）前越（yuè）來越重視環保的大趨勢下，這點極其可貴。
（4）帶鋼鍍膜質量好。能獲得均勻、平滑且極薄（báo）的（de）鍍膜，鍍膜純（chún）度高，耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏（lòu）鍍點、鋅浪、鋅花（huā）等問題。
（5）工藝靈活，改變品種（zhǒng）方便。可鍍單麵、雙麵和單層（céng）、多層及混合層。鍍膜厚度易於控製。
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