了解真空（kōng）鍍膜和光學（xué）鍍（dù）膜的區別

1、概念差異

1. 真空（kōng）鍍膜（mó）是（shì）指在高真空條件下加熱金屬或非金屬材料，使其在被鍍件(金屬、半導（dǎo）體或絕（jué）緣體)表麵蒸發凝結形成薄膜的一種方法。如（rú）真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

2. 光學鍍膜是指在（zài）光學元件表麵塗覆一層(或多層)金屬（shǔ）(或介電)薄膜的工藝。在光學元件表麵塗膜的目的是（shì）為了減（jiǎn）少或增加光的反射、分束、分色、過濾、偏振等要求（qiú）。常用的包覆方法有真空包覆(物理包覆（fù）的一種)和化學包覆。

2、原則差異

1. 真空鍍膜是真空應用的一個（gè）重要方麵，它以真空技（jì）術（shù）為基礎，利用（yòng）物理或化學方法，吸收了電子束、分（fèn）子（zǐ）束、離子束、等離子體束、射頻、磁控管等一係列新技（jì）術，為科學研究和實際生產提供了薄（báo）膜製備的（de）新工藝。簡單地說，就是在真空中蒸發或濺射金屬、合金或化合物以使其凝固並沉（chén）積在（zài）塗層物（wù）體(稱為基材、襯（chèn）底或襯底)上的方法。

2. 光的幹涉在（zài）薄膜光學中有著廣泛的（de）應用。光學薄膜技術（shù）常用的方法是通過（guò）真空（kōng）濺（jiàn）射在玻璃基板上塗覆薄膜，一般用來控製基板對（duì）入射光束的反（fǎn）射率和透（tòu）射率，以（yǐ）滿足不同的需（xū）要。為了消除（chú）光學元件表麵的反射損（sǔn）失，提高成像質量，在表麵塗上一層或多層透明的介電膜，稱為抗反（fǎn）射膜或（huò）抗反射膜。

隨著激光（guāng）技術的發（fā）展，對膜層的反射（shè）率和透射率有了不同的要求，促進了多層高反射膜和（hé）寬帶增透膜的發展（zhǎn）。為滿足各種應用的需要，采用高反射膜製造偏光反射膜（mó）、彩色光譜膜、冷光膜、幹涉濾光（guāng）片（piàn）等。光學元件表麵塗覆（fù）後，光在膜層上多次反射透射，形成多束幹涉。通過（guò）控製膜層的折射（shè）率和厚度，可以得（dé）到不同的光強分布，這是幹涉鍍膜的基本原理。

3、方法和（hé）材料的差異

1. 真空鍍膜法

(1)真空蒸發鍍:將待鍍基材清洗幹淨，放入鍍膜室。抽真空後，將薄膜（mó）材料加熱到高溫，使（shǐ）蒸氣達到約13.3Pa，使蒸氣分子飛到基片表麵，凝結成薄膜（mó）。

(2)陰 極濺射（shè）鍍（dù）:將待鍍基材置於陰 極（jí）的對麵，在真空（kōng）室（shì）中引入（rù）惰（duò）性氣體(如氬氣)，保持壓力約1.33-13.3Pa，然後將陰 極接在2000V直（zhí）流（liú）電源上刺激輝光放電。正氬離子撞擊陰 極，使其（qí）釋放出原子。濺落的原子通過惰性氣氛沉積在襯底上，形成薄膜。

(3)化學氣相（xiàng）沉積:通過對選定的金屬或有機化合物進行熱分解得到沉積薄膜的過程。

(4)離子鍍:離子鍍本（běn）質上是（shì）真空蒸發鍍和陰 極濺射鍍的有機（jī）結合，具有兩者的工（gōng）藝特（tè）點（diǎn）。各種塗覆方式的優缺點如表6-9所示。

2. 光（guāng）學鍍膜方法（fǎ）用材料

(1)氟化鎂:純度高的無色四方結晶粉末，用於光學鍍膜，提高透光率，防止坍塌點。

(2)二氧化（huà）矽:無色透明晶體，熔點（diǎn）高，硬度（dù）高，化學穩定性（xìng）好。純度高，用於製備（bèi）高品質SiO2塗層，蒸發狀態好，無坍塌點。根據（jù）使用（yòng）要求分為（wéi）紫外線、紅（hóng）外線和可見光。

(3)氧化（huà）鋯:白色重晶態，具有高折射率和耐高溫性能，化學性（xìng）質穩定，純度高。用於製備無坍塌點（diǎn）的高質量氧化鋯塗層。